2, 2- dimethoxy -2- phenylacetophenone 丨 cas 24650-42-8

1. פוטו -פולימריזציה
Y
o אקריליק
o methacrylates
O שרפים אפוקסי
ביא
● נפוץ ב:
o ציפויים ולכות
o שרפים הדפסת תלת מימד (סטריאוליתוגרפיה, עיבוד אור דיגיטלי)
o דבקים וחומרי איטום
o חומרי שיניים (שרפים וקומפוזיציות)
2. תעשיית הדפסה וציפוי
ביא
● מאפשר ריפוי מהיר ויצירת סרטים קשוחים ועמידים
● מסייע בהפחתת פליטות ממס על ידי תמיכה במערכות 100% מוצקים של UV- CURABLE
3. מיקרואלקטרוניקה וחומרים אופטיים
● מיושם בפורמולות פוטורסיסטיות למיקרו -ייצור וליתוגרפיה
● תומך בייצור של מכשירים מיקרו -פלואידיים ומדריכי גל אופטיים
4. יישומים ביו -רפואיים
ביא
● מאפשר שליטה מרחבית וזמנית של פילמור בתנאים קלים, תוך שמירה על ביו -אקטיביות של מולקולות רגישות
5. מחקר ופיתוח
● פופולרי בסינתזת מעבדה לפילמור רדיקלי מבוקר
● משמש בפיתוח פולימרים פונקציונליים וננו -קומפוזיטים עם תכונות מותאמות

1. דור רדיקלי יעיל
● DMPAP מייצר ביעילות רדיקלים חופשיים לאחר חשיפה לאור UV (בדרך כלל 320-400 ננומטר), ומאפשר פילמור מהיר ומבוקר
2. צהבה נמוכה ושקיפות גבוהה
● בהשוואה לחלק מהפוטו -יוניטיטורים, הוא מעניק צבע מינימלי בחומרים מרפאים, חשוב לבהירות אופטית ואסתטיקה
3. צדדיות
● תואם למגוון רחב של מונומרים ומערכות פולימרים
● יעיל הן בסרטים דקים והן בפולימריזציות בתפזורת
4. תנאי עיבוד קלים
● מאפשר ריפוי בטמפרטורת החדר ללא צורך ביוזמים תרמיים, ומגן על מצעים ותוספים רגישים לחום

2, 2- dimethoxy -2- phenylacetophenone 丨 CAS 24650-42-8 הוא פוטו-איניטציה מסוג I יעיל ביותר בשימוש נרחב בטכנולוגיות ריפוד UV עבור ציפויים, דבקים נמוכים, יישומים רדיקלים בתלת מימד, ויישומים ביו-רפואיים . ביכולת רדיקלים מהירה, בעלי צבא uv, uv, uv, uv, uv, uv, uving uving gulation gulation, רבגוניות במערכות פולימרים, הופכת אותו לכימיקלים יקרי ערך בהגדרות תעשייתיות וגם מחקריות המתמקדות בחומרים פולימריים מתקדמים ותהליכי ריפוי בר -קיימא .